Ultrasoon reinigingssystemen werken over het algemeen in het frequentiebereik tussen de 25 en 150 kHz wat voor zeer kritische toepassingen mogelijk schade aan de onderdelen toebrengt en/of het gewenste reinigingsresultaat niet levert.
Voor deze reinigingstoepassingen met fragiele microstructuren en/of hoge reinheidseisen m.b.t. partikel afmetingen leveren wij ultrasoon reinigingssystemen in het megasoon frequentiebereik vanaf 400 kHz tot 3 MHz. Er is namelijk een direct verband tussen frequentie en de te verwijderen partikelgrootte.
De Megasonic generator transformeert de netfrequentie van 50/60 Hz in een frequentie die overeenkomt met de werkfrequentie van de gepatenteerde transducer. Bij deze hoge frequenties wordt de cavitatie energie significant lager en zorgt tezamen met microstroming in de vloeistof voor het verwijderen van de deeltjes. In de praktijk blijkt het mogelijk om deeltjes van 0,3 µm tot 0,1 µm te verwijderen.
Megasonic toepassingen zijn er te vinden in de semiconductor industrie met wafer en photomask reiniging, photonics , bij MEMS, sensoren en algemeen meer bij micro- en nano-structuren.
